n美国耶鲁大学教授
n美国工程院院士(2003年),台湾中央研究院院士(2012年),中科院外籍院士(2009年),世界科学院院士(2012年),IEEE会士(1994年)
n在MOS栅氧化层、高介电常数的栅介质(成为工业界标准工艺)领域做出了重要贡献
n1998年获IEEE Paul Rappaport奖,2005年Pan Wen-Yuan奖,2005年获IEEE Andrew S. Grove大奖,2006年SIA大学研究者奖,2008年获康涅狄格技术奖章
n与北京大学微纳电子学研究院王阳元院士共同成立了北京大学-耶鲁微纳电子合作研究中心;北京大学客座教授;联合发表多篇高水平研究论文